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渡邉哲也さんがリツイート  本番突入「半導体関連」逆襲高のステージ、EUV技術が開拓する新たな地平 EUV露光技術の導入によるメリットは、現行の最先端露光技術である「ArF液浸露光」では、露光や現像、エッチングなどの工程が数回は必要であるのに対し、EUV露光では1回で済むという。 [政治]

渡邉哲也さんがリツイート  本番突入「半導体関連」逆襲高のステージ、EUV技術が開拓する新たな地平 EUV露光技術の導入によるメリットは、現行の最先端露光技術である「ArF液浸露光」では、露光や現像、エッチングなどの工程が数回は必要であるのに対し、EUV露光では1回で済むという。

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