渡邉哲也さんがリツイート 本番突入「半導体関連」逆襲高のステージ、EUV技術が開拓する新たな地平 EUV露光技術の導入によるメリットは、現行の最先端露光技術である「ArF液浸露光」では、露光や現像、エッチングなどの工程が数回は必要であるのに対し、EUV露光では1回で済むという。 [政治]
渡邉哲也さんがリツイート 本番突入「半導体関連」逆襲高のステージ、EUV技術が開拓する新たな地平 EUV露光技術の導入によるメリットは、現行の最先端露光技術である「ArF液浸露光」では、露光や現像、エッチングなどの工程が数回は必要であるのに対し、EUV露光では1回で済むという。
本番突入「半導体関連」逆襲高のステージ、EUV技術が開拓する新たな地平
— Nakamura1972 (@Nakamura19722) 2019年10月15日
EUV露光技術の導入によるメリットは、現行の最先端露光技術である「ArF液浸露光」では、露光や現像、エッチングなどの工程が数回は必要であるのに対し、EUV露光では1回で済むという。https://t.co/q5kxdy4lXF
2019-10-16 19:57
nice!(0)
コメント(0)
コメント 0